常用半导体污水处理工艺流程是一个复杂且精细的过程，旨在去除废水中的有害物质，保护环境和实现资源的回收利用。以下是一个典型的半导体污水处理工艺流程的概述：

一、预处理阶段

1、格栅拦截：通过格栅去除废水中的大颗粒悬浮物，如碎屑、漂浮物等，防止其进入后续处理单元造成堵塞。

2、沉淀/固液分离：利用重力作用，使废水中的悬浮颗粒在沉淀池中沉降下来，进一步去除废水中的悬浮物。此外，还可以采用过滤等物理方法辅助固液分离。

3、pH调节：根据废水中污染物的性质，调整废水pH值至适宜范围，以便后续处理工艺能够更好地发挥作用。

二、分类处理阶段

半导体生产过程中产生的废水种类繁多，包括酸碱废水、含氟废水、研磨废水等，需要根据废水类型进行分类处理。

1、酸碱废水处理：

pH中和法：将酸碱废水调节至中性，常用的中和剂有石灰、氢氧化钠等。

浓缩法：对于高浓度的酸碱废水，可以采用蒸发浓缩等方法进行减量化处理。

2、含氟废水处理：

吸附法：利用活性氧化铝等吸附剂去除废水中的氟离子。

化学加药混凝法：通过投加化学药剂（如氯化钙）与氟离子反应生成沉淀物，再通过混凝沉淀去除。

3、研磨废水处理：

化学混凝沉淀法：投加混凝剂（如聚合氯化铝、聚丙烯酰胺等）使废水中的悬浮颗粒聚集成较大的絮状物，然后通过沉淀去除。

三、深度处理阶段

1、膜分离技术：利用超滤(UF)、纳滤(NF)或反渗透(RO)等膜技术去除废水中的溶解性固体、胶体物质和部分有机物，提高废水的水质。

2、高级氧化技术(AOP)：对于难以生物降解的有机物，可以采用高级氧化技术进行处理。该技术使用臭氧、过氧化氢等强氧化剂，在催化剂（如TiO₂）和紫外光的作用下，生成羟基自由基等强氧化性物质，将有机物降解为无害的小分子物质。

3、电解处理：通过电解的方式，使废水中的有害物质转化为无害物质或易于处理的形式。例如，电解过程中产生的铝、镁等离子体可以与废水中的污染物结合生成沉淀物。

四、达标排放或回用

经过上述处理工艺后，废水中的有害物质得到有效去除，水质达到排放标准或回用要求。对于达到排放标准的废水，可以直接排入环境；对于满足回用要求的废水，则可以回用于生产过程，实现水资源的循环利用。

需要注意的是，半导体污水处理工艺流程的具体设计需要根据废水的性质、处理要求以及当地环保法规等因素进行综合考虑。同时，随着技术的不断发展，新的处理工艺和技术也将不断涌现，为半导体行业的可持续发展提供有力保障。